[20345] Artykuł:
Depth profiling of dopants implanted in Si using the synchrotron radiation based high-resolution grazing emission technique
Czasopismo: X-Ray Spectrometry Tom: 41, Strony: 98-104ISSN: 0049-8246
Opublikowano: 2012
Autorzy / Redaktorzy / Twórcy
| Imię i nazwisko | Wydział | Katedra | Procent udziału |
Liczba punktów |
| Yves Kayser | 9 | .00 | ||
| Dariusz Banas | 9 | .00 | ||
| Wei Cao | 9 | .00 | ||
| Jean-Claude Dousse | 9 | .00 | ||
| Joanna Hoszowska | 9 | .00 | ||
Paweł Jagodziński  | Uniwersytet Jana Kochanowskiego w Kielcach | 9 | .00 | |
| Matjaz Kavcic | 9 | .00 | ||
| Aldona Kubala-Kukus | 9 | .00 | ||
| Stanisław Nowak | Uniwersytet Jana Kochanowskiego w Kielcach | 9 | .00 | |
| Marek Pajek | 9 | .00 | ||
| Jakub Szlachetko | 9 | .00 | ||
Grupa MNiSW: Publikacja w czasopismach wymienionych w wykazie ministra MNiSzW (część A)
Punkty MNiSW: 20
Klasyfikacja Web of Science: Article
Web of Science