[32602] Artykuł:
Interferometry (CCI) Technique for Study Topography of the C-Ni Films Deposited on Porous Silicon
Czasopismo: Proceedings CAS 2010 , Sinaia, 11-13 October 2010 ISBN 978-1-4244-5781-6 Tom: 02, Strony: 367-370Opublikowano: 2010
Autorzy / Redaktorzy / Twórcy
| Imię i nazwisko | Wydział | Katedra | Procent udziału |
Liczba punktów |
Małgorzata Suchańska  | WEAiI | Katedra Telekomunikacji, Fotoniki i Nanomateriałów ***** | 33 | .00 |
| Medard Makrenek | WZiMK | Katedra Fizyki ***** | 33 | .00 |
| Jacek Świderski | WMiBM | Katedra Technologii Mechanicznej i Metrologii* | 33 | .00 |
Grupa MNiSW: Pozostałe publikacje (niepunktowane)
Punkty MNiSW: 0
DOI 
YADDA/CEON Keywords:
thin films carbon light interferometry nanocomposites nickel porous materials C-Ni coherence correlation interferometry porous silicon topography films microporous materials Si Scanning electron microscopy Silicon Films Correlation Coherence nanocomposite Coherence Correlation Interferometry carbon - nickel films porous material